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彩神lv - -追求健康,你我一起成长

来源:彩神lv2023-03-01 17:48

  

中国旱作农业源自何处?专家称至少包括黄河西辽河两个起源中心******

中国旱作农业源自何处?专家称至少包括黄河西辽河两个起源中心

  资料图:刘国祥研究员在第六届世界小米起源与发展会议上做报告。 中新社记者 孙自法 摄

  中新网北京12月27日电 (记者孙自法)农业起源和人类起源、文明起源一道并称为考古学研究的三大课题,其中,农业包括旱作农业和稻作农业,中国旱作农业如何起源、从哪里起源等问题,长期以来在学界有一定争议,也备受关注。

  在中国社会科学院考古研究所刘国祥研究员看来,中国旱作农业可能不只有一个起源地,至少应包括黄河流域和西辽河流域两个起源中心。

资料图:内蒙古敖汉旗一处小米种植基地。 <a target=&apos;_blank&apos; href=&apos;/&apos;><p align=

资料图:内蒙古敖汉旗一处小米种植基地。 中新社记者 孙自法 摄

  由中国社会科学院考古研究所、中国科学院地理科学与资源研究所、赤峰市及敖汉旗政府等共同主办的第九届世界小米起源与发展会议,12月27日以线上线下相结合方式举行。刘国祥以《敖汉旱作农业与西辽河流域史前文明》为题作学术报告指出,传统观点认为,地处黄河流域的中原地区是旱作农业的发源地,但西辽河流域内蒙古敖汉旗兴隆沟遗址炭化粟、黍遗存等发现,引发出关于中国旱作农业起源问题的新思考。

  刘国祥说,目前许多学者认为,西辽河流域的自然环境具有脆弱性、多变性和不稳定性,会使人类具有食物短缺的压力,当地的草原生态系统虽较为干旱,但河流仍能提供充足的水源,加之粟、黍的生命力顽强,完全具备农业发展的条件,非常有可能催生原始农业的产生。因此,中国旱作农业可能不只有一个起源地,至少应包括黄河流域和西辽河流域两个起源中心。

  从考古学文化视角,中国北方旱作农业发展历经小河西文化时期(距今约9000-8500年)的萌芽阶段、兴隆洼文化时期(距今约8200-7200年)的形成阶段、赵宝沟文化时期(距今约6700-6400年)的发展阶段、红山文化时期(距今约6500-5000年)的成熟阶段、小河沿文化时期(距今约5000-4000年)的过渡阶段、夏家店下层文化时期(距今约4000-3400年)为鼎盛阶段。

资料图:内蒙古敖汉旗展示当地小米磨制过程。 <a target=&apos;_blank&apos; href=&apos;/&apos;><p align=

资料图:内蒙古敖汉旗展示当地小米磨制过程。 中新社记者 孙自法 摄

  他建议,今后应继续加强田野考古工作,围绕敖汉旱作农业系统,以河流为中心,系统获取土样,通过炭化籽粒建立当地旱作农业系统谱系,加强旱作农业系统的保护与延续。

  刘国祥表示,兴隆洼文化兴隆沟遗址浮选出土的炭化粟和黍,经中外三家不同的碳十四实验室年代测定,证实兴隆沟出土粟的年代距今约7650年,这是目前世界上发现最早的小米实物遗存之一,也是唯一经过精确年代测定的最早的小米遗存,表明当地是以粟、黍为主的旱作农业起源地。英国剑桥大学马丁·琼斯教授到敖汉旗兴隆沟遗址进行考察,也得出欧洲小米是由中国西辽河流域最早栽培并由东向西传入的研究结论。“考虑到兴隆沟遗址所处位置,其很有可能是小米向欧洲传播的起始点”。

  即将到来的2023年已被联合国确定为“国际小米年”。刘国祥认为,“国际小米年”将提供机会引导政策关注,从而为敖汉小米等产业发展带来新机遇、新起点。同时,“国际小米年”也将推动对旱作农业考古文化更深入的研究、更好的保护和传承。(完)

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多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础******

  科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉,该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作,基于光量子集成芯片,在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

  量子干涉是众多量子应用的基础,特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年,并且在许多新兴量子技术中得到应用,直到2017年,人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程,但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性,一直未获得新进展。光量子集成芯片,以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台,也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

  任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上,研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联,在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程,其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化,这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

  这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程,为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作,并给出了高度评价:该芯片设计精良,包含多种集成光学元件,如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器;这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

  (文图:赵筱尘 巫邓炎)

[责编:天天中]
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